离子束溅射系统

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  • 磁控溅射系统靶中毒的影响因素

    磁控溅射系统靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子,通常是放热反应,反应生成热必需有传导出去的途径,否则,该化学反应无法继续
    发布时间:2022-11-21   

  • 磁控溅射系统在装修领域的应用

    当磁控溅射系统入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时,不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时,溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度
    发布时间:2022-10-28   

  • 磁控溅射镀膜仪的方式有哪些

    磁控溅射镀膜仪在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产,那么大家知道目前的磁控溅射镀膜仪主要的溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。磁控溅射镀膜仪
    发布时间:2022-09-16   

  • 磁控溅射镀膜仪在颗粒状表面运行是否可行

    随着科技的发展,使用磁控溅射镀膜仪对颗粒状物体镀膜已经不再是一件难事。特别是在颗粒状金属物体表面使用镀膜技术已经相当成熟。这是应为颗粒物体表面积能都比较大,其之间能够容易进行团聚,曲率半径却是小的,因此在颗粒状物体表面上使用磁控虽然可行,但
    发布时间:2022-08-16   

  • 用磁控溅射系统溅射金属和合金很简单

    磁控溅射系统的作业原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片进程中与氩原子发生磕碰,使其电离发生出Ar正离子和新的电子。溅射时,气体被电离之后,气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材,电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下,发生的离
    发布时间:2022-01-06   

  • 磁控溅射系统为了提高溅射的功率,加速作业的进展

    磁控溅射系统玻璃对错晶无机非金属资料,一般是用多种无机矿藏(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸钡、石灰石、长石、纯碱等)为主要原料,别的参加少量辅助原料制成的。真空蒸发镀膜玻璃的种类和质量与磁控溅射镀膜玻璃比较均存在必定差距,已逐渐被真空溅
    发布时间:2021-12-23   

  • 磁控溅射系统须有效地提高气体的离化率

    磁控溅射系统经过改进堆积率和增大批量,体系产值Z高能够添加400%靶材利用率Z高能够添加300%、减少维护并改进整体拥有本钱专为提高薄膜均匀度而优化的刀具几何结构与固有的IBS加工技术优势相结合,可使资料均匀度提升50%。SP
    发布时间:2021-11-25   

  • 磁控溅射系统溅射金属和合金很容易,焚烧和溅射很便利

    溅射镀膜膜厚均匀性是间接衡量镀膜工艺的规范之一,它涉及镀膜进程的各个方面。因而,制备膜厚均匀性好的薄膜需要建立一个溅射镀膜膜厚均匀性归纳规划体系,对溅射镀膜的各个方面进行分类、归纳和总结,找出其内在联系。磁控溅射包括许多品种。各有不同作业原
    发布时间:2021-10-07   

  • 磁控溅射镀膜仪适合于大容积镀膜

    磁控溅射镀膜仪是由二极溅射基础上开展而来,在靶材外表树立与电场正交磁场,处理了二极溅射堆积速率低,等离子体离化率低一级问题,成为现在镀膜工业首要方法之一。磁控溅射与其它镀膜技术比较具有如下特征:可制备成靶的材料广,几乎全部金属,合金和
    发布时间:2021-09-22   

  • 磁控溅射系统的工作原理

    磁控溅射系统的作业原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片进程中与氩原子产生磕碰,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴ji靶,并以高能量炮击靶表面,使靶材产生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分
    发布时间:2021-08-24   

  • 磁控溅射镀膜仪的技术介绍

    磁控溅射镀膜仪是一种具有结构简略、电器操控稳定性好等优点的真空镀膜机,其工艺技术的选择对薄膜的功能具有非常重要的影响。磁控溅射镀膜技术在陶瓷外表装修中采用的工艺流程如下:陶瓷片→超声清洗→装夹→抽本底真空→plasma清洗→加热→通氩气→预
    发布时间:2021-07-28   

  • 磁控溅射系统是怎样提高沉积速率的?

    磁控溅射系统提高沉积速率的原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速
    发布时间:2021-06-04   

  • 射频磁控溅射与离子束溅射系统有哪些区别

    射频磁控溅射与离子束溅射系统有哪些区别两种溅射法的比照分析在高频溅射中,被溅射资料以分子标准巨细的粒子带有一定能量接二连三的穿过等离子体在基片上淀积薄膜,这样,膜质比热蒸腾淀积薄膜细密、附着力好。但是溅射粒子穿过等离子体区时,吸附等离子体中
    发布时间:2021-05-26   

  • 磁控溅射镀膜机镀膜均匀性是一项重要指标

    真空行业的从业者都知道,磁控溅射镀膜机镀膜均匀性是一项重要的目标,均匀性好的镀膜机,镀出优秀的膜层慨率也就高许多,一起也降低了本钱,这是每个企业老板所希望的。因此,客户在采购设备的时候,分外的关注镀膜机均匀性问题,这个问题也是谈
    发布时间:2021-03-31   

  • 磁控溅射系统具有环保性

    磁控溅射系统可以有效的前进产品的质量,特别是使用在一些金属原料上的时候,其不只可以让其具有绝缘的效果,还可以提水抗腐蚀程度的水平。在现在的商场中磁控溅射体系设备适用于电子、机械、修建和其他领域的金属及介电涂层商场的很大一部分份额。该设备是对
    发布时间:2021-02-19   

  • 磁控溅射镀膜仪的特征有哪些?

    磁控溅射镀膜仪设备作为现在的的外表处理设备,其效果是非常大的,不只使用范围广泛,在使用上还可以给人们带来便利。磁控溅射镀膜仪具有以下明显特征:1、成膜厚度工艺参数精准可控。经过调整炉内气压、溅射功率、衬底温度、磁场以及电场参数等,可方便地对
    发布时间:2021-01-21   

  • 磁控溅射系统的设计方法

    磁控溅射系统是现代工业中必不可少的技术之一。磁控溅射镀膜技术被广泛应用于透明导电膜,光学膜,超硬膜,防腐膜,磁性膜,抗反射膜,抗反射膜和各种装饰膜,在国防和国防领域日益强大和重要。经济生产。在实际生产中,诸如膜厚均匀性,沉积速率和涂布
    发布时间:2020-12-02   

  • 磁控溅射系统的原理

    磁控溅射系统的原理是在电场的作用下,稀薄气体的异常辉光放电产生的等离子体会轰击阴极靶的表面,并从靶表面溅射出分子,原子,离子和电子。溅射的粒子携带一定量的动能,并在一定方向上朝向基板的外表面射出,从而在基板的表面上形成涂层。溅射涂层开始
    发布时间:2020-11-29   

  • 磁控溅射镀膜仪如何使用效率才高?

    在使用磁控溅射镀膜设备的时候,使用一般的溅射办法,发现溅射功率都不是非常的高。为了进步溅射的功率,加速工作的进展。那么该怎样加速这种设备的运用功率呢?这就需求增加气体的理化功率。增加气体的离化功率能够有用的进步溅射的功率。浅析磁控溅射镀膜设
    发布时间:2020-10-22   

  • 磁控溅射镀膜设备溅射方式

    目前市场上磁控溅射镀膜设备的溅射方法有很多种,比如说在运用中常见的二级溅射、三级溅射、四级溅射,以及磁控溅射,对向靶溅射......等多种。那么这些溅射方法有什么区别呢?下面我们来简单的介绍几种溅射
    发布时间:2020-09-27   

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