离子束溅射系统

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  • 磁控溅射系统的多种类型

    磁控溅射系统包括许多类型,每个都有不同的工作原理和应用对象。但是,它们有一个共同点:磁场和电场之间的相互作用导致电子在目标表面附近盘旋,从而增加了电子撞击氩气产生离子的可能性。产生的离子在电场的作用下撞击靶表面并溅射靶材料。目标源分为平
    发布时间:2019-12-06   

  • 磁控溅射系统的原理

    磁控溅射系统的原理是在电场的作用下,稀薄气体的异常辉光放电产生的等离子体会轰击阴极靶的表面,并从靶表面溅射出分子,原子,离子和电子。溅射的粒子携带一定量的动能,并在一定方向上朝向基板的外表面射出,从而在基板的表面上形成涂层。溅射涂层开始
    发布时间:2019-12-05   

  • 离子束溅射系统有哪些应用?

    离子束溅射系统的应用范围可分为两类,一类是工具涂层,另一类是装饰涂层。对于前一种涂料,它具有延长使用寿命的作用,而对于后者,则是更多的表面装饰。工具的涂层是工具的示例。硬质合金制成的刀体表面经过离子镀膜后,表面的硬度和自润滑性将得到显着
    发布时间:2019-11-28   

  • 离子束溅射系统有哪些好处?

    无论哪种机械产品,如果要长时间使用并且在日常使用中具有出色的性能,则绝对是日常维护必不可少的。今天,我将讨论日常维护和维护离子束溅射系统的好处。通常,根据说明进行维护的离子束溅射系统可以有效地延长离子束溅射系统的使用寿命。可以说,在离子
    发布时间:2019-11-25   

  • 磁控溅射系统新发展趋势

    一般而言,增强系统某一部分的功能将带来整体功能的增强,同时减少系统对某些部分的依赖,或者可以理解为:两个必要因素该系统有机地合并为一个部分。建立一个全面的设计系统有助于研究系统各个部分的内部逻辑关系。溅射技术的出现和应用经历了许多阶段。
    发布时间:2019-11-22   

  • 磁控溅射系统的设计方法

    磁控溅射系统是现代工业中必不可少的技术之一。磁控溅射镀膜技术被广泛应用于透明导电膜,光学膜,超硬膜,防腐膜,磁性膜,抗反射膜,抗反射膜和各种装饰膜,在国防和国防领域日益强大和重要。经济生产。在实际生产中,诸如膜厚均匀性,沉积速率和涂布
    发布时间:2019-11-19   

  • 磁控溅射系统的主要用途有哪些?

    磁控溅射系统的主要用途(1)各种功能性薄膜:具有吸收,透射,反射,折射和偏振功能的薄膜。例如,在低温下沉积氮化硅抗反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。(2)在装饰领域的应用,例如各种全反射膜和半透明膜,例如手机壳,鼠标等。(3)作为微电
    发布时间:2019-11-15   

  • 磁控溅射系统被广泛应用

    磁控溅射系统已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高
    发布时间:2019-11-11   

  • 磁控溅射系统的工作原理

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须
    发布时间:2019-11-09   

  • 磁控溅射镀膜仪的用途

    为了解决阴极溅射的缺陷,人们在20世纪70年代开发出了磁控溅射镀膜仪,它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点,由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子
    发布时间:2019-11-07   

  • 电子束蒸发​基本内容和优点

    电子束蒸发电子束蒸发是一种基于钨丝蒸发的真空蒸发方式。电子束是高速电子流。电子束蒸发是真空镀膜技术中成熟且主要的镀膜方法。解决了在电阻加热模式下膜材料和蒸发源材料直接接触的问题。中文
    发布时间:2019-10-31   

  • 真空热压炉结构说明

    真空热压炉真空热压炉主要由炉体,炉门,加热保温和测温系统,真空系统,充气系统,水冷却系统,控制系统,液压系统等组成。。真空热压炉是一种循环操作型,广泛用于高温高真空条件下的热熔烧结,例如硬质合金,功能陶瓷,粉末
    发布时间:2019-10-29   

  • 热压烧结功能设备

    热压烧结热压烧结是指将干粉填充到模具中并在从单轴方向加压的同时进行加热以完成成型和烧结的烧结方法。功能热压烧结特性:热压烧结是通过加热和加压同时进行的,粉末材料处于热塑性状态,这有利于颗粒的接触扩散
    发布时间:2019-10-25   

  • 电子束蒸发源​的简介和使用

    电子束蒸发源在真空镀膜设备中,电子束蒸发源虽远较电阻加热式蒸发源复杂,但因其能蒸镀难熔材料,膜层纯度高,而优于电阻加热蒸发源。中文名电子束蒸发源外文名evaporatorwithelectronbeam基本内容电子束加热的蒸镀源
    发布时间:2019-10-22   

  • 磁控溅射设备的主要用途

    磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更
    发布时间:2019-10-18   

  • 磁控溅射镀膜系统的原理是什么?

    溅射镀膜的原理是在电场的作用下,由异常辉光放电产生的等离子体被轰击在阴极靶的表面上,并且靶表面上的分子,原子,离子和电子被溅射并溅起。所发射的颗粒具有一定的动能,并且沿一定的方向被导向基板的外表面,以在基板的表面上形成镀层。
    发布时间:2019-10-16   

  • 磁控溅射主要用途有哪些?

    磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更
    发布时间:2019-10-14   

  • 用磁控靶源溅射金属和合金很容易!

    用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。等离子体溅射的基本
    发布时间:2019-09-27   

  • 磁控溅射系统的特点!

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射系统厂家带你了解更多!磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场
    发布时间:2019-09-25   

  • 磁控溅射镀膜仪的优点!

    磁控溅射技术在建材、装饰、光学、防腐蚀、工磨具强化等领域得到比较广泛的应用,利用磁控溅射技术进行光电、光热、磁学、超导、介质、催化等功能薄膜制备是当前研究的热点。磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多
    发布时间:2019-09-19   

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