离子束溅射系统

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磁控溅射镀膜仪的方式有哪些

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磁控溅射镀膜仪的方式有哪些

发布日期:2022-09-16 作者: 点击:

磁控溅射镀膜仪在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产,那么大家知道目前的磁控溅射镀膜仪主要的溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。

磁控溅射镀膜仪原理解析

主要的磁控溅射镀膜仪可以根据其特征分为以下四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.

现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点。


磁控溅射镀膜仪


直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法。

而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象。

而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好。

如果寻找本质区别是:直流溅射是气体放电的前期,而射频是后期,我们很常见的射频是电焊机.溅射过程所用设备的区别就是电源的区别。

以上就是主要的磁控溅射镀膜仪的溅射方式,希望可以帮助带您。

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