离子束溅射系统

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  • 磁控溅射系统被广泛应用

    磁控溅射系统已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高
    发布时间:2019-11-11   

  • 磁控溅射系统的工作原理

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须
    发布时间:2019-11-09   

  • 磁控溅射镀膜仪的用途

    为了解决阴极溅射的缺陷,人们在20世纪70年代开发出了磁控溅射镀膜仪,它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点,由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子
    发布时间:2019-11-07   

  • 电子束蒸发​基本内容和优点

    电子束蒸发电子束蒸发是一种基于钨丝蒸发的真空蒸发方式。电子束是高速电子流。电子束蒸发是真空镀膜技术中成熟且主要的镀膜方法。解决了在电阻加热模式下膜材料和蒸发源材料直接接触的问题。中文
    发布时间:2019-10-31   

  • 真空热压炉结构说明

    真空热压炉真空热压炉主要由炉体,炉门,加热保温和测温系统,真空系统,充气系统,水冷却系统,控制系统,液压系统等组成。。真空热压炉是一种循环操作型,广泛用于高温高真空条件下的热熔烧结,例如硬质合金,功能陶瓷,粉末
    发布时间:2019-10-29   

  • 热压烧结功能设备

    热压烧结热压烧结是指将干粉填充到模具中并在从单轴方向加压的同时进行加热以完成成型和烧结的烧结方法。功能热压烧结特性:热压烧结是通过加热和加压同时进行的,粉末材料处于热塑性状态,这有利于颗粒的接触扩散
    发布时间:2019-10-25   

  • 电子束蒸发源​的简介和使用

    电子束蒸发源在真空镀膜设备中,电子束蒸发源虽远较电阻加热式蒸发源复杂,但因其能蒸镀难熔材料,膜层纯度高,而优于电阻加热蒸发源。中文名电子束蒸发源外文名evaporatorwithelectronbeam基本内容电子束加热的蒸镀源
    发布时间:2019-10-22   

  • 磁控溅射设备的主要用途

    磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更
    发布时间:2019-10-18   

  • 磁控溅射镀膜系统的原理是什么?

    溅射镀膜的原理是在电场的作用下,由异常辉光放电产生的等离子体被轰击在阴极靶的表面上,并且靶表面上的分子,原子,离子和电子被溅射并溅起。所发射的颗粒具有一定的动能,并且沿一定的方向被导向基板的外表面,以在基板的表面上形成镀层。
    发布时间:2019-10-16   

  • 磁控溅射主要用途有哪些?

    磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更
    发布时间:2019-10-14   

  • 用磁控靶源溅射金属和合金很容易!

    用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。等离子体溅射的基本
    发布时间:2019-09-27   

  • 磁控溅射系统的特点!

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射系统厂家带你了解更多!磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场
    发布时间:2019-09-25   

  • 磁控溅射镀膜仪的优点!

    磁控溅射技术在建材、装饰、光学、防腐蚀、工磨具强化等领域得到比较广泛的应用,利用磁控溅射技术进行光电、光热、磁学、超导、介质、催化等功能薄膜制备是当前研究的热点。磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多
    发布时间:2019-09-19   

  • 磁控溅射镀膜仪的作用!

    真空镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量,在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行真空镀膜。磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞
    发布时间:2019-09-18   

  • 磁控溅射镀膜技术!

    磁控溅射镀膜技术由于其显著的优点已经成为制备薄膜的主要技术之一。非平衡磁控溅射改善了等离子体区域的分布,显著提高了薄膜的质量。中频溅射镀膜技术的发展有效克服了反应溅射过程中出现的打弧现象,减少了薄膜的结构缺陷,明显提高了薄膜的沉积速率。磁控
    发布时间:2019-09-15   

  • 溅射镀膜过程是什么?

    镀膜织物膜基结合力与其表面钛膜的耐磨性密切相关,钛膜耐磨性越好,膜基结合就越牢固。磁控溅射镀膜玻璃即为离线镀膜玻璃,是在平板玻璃出厂后,再进行镀膜加工。合格的镀膜玻璃不仅要满足光学透射率、反射率、耐磨性能、抗化学腐蚀性能等理化指标,还要保证
    发布时间:2019-09-12   

  • 磁控溅射镀膜技术正广泛应用!

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!用磁
    发布时间:2019-09-10   

  • 真空镀膜主要是为了减少反射!

    磁控溅射技术是近年来新兴的一种材料表面镀膜技术,该技术实现了金属、绝缘体等多种材料的表面镀膜,具有高速、低温、低损伤的特点。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!真空镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量,在现代镜头制造工艺上都
    发布时间:2019-09-06   

  • 磁控溅射镀膜仪的原理!

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这
    发布时间:2019-08-31   

  • 磁控溅射靶材主要应用于电子及信息产业!

    磁控溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息储存、液晶存储、液晶显示器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、化学电镀、金属泡沫材料、装饰用品等行业。磁控溅射系统哪家好?磁控溅射靶材的制备技术方法
    发布时间:2019-08-13   

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