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磁控溅射镀膜仪的技术介绍

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磁控溅射镀膜仪的技术介绍

发布日期:2021-07-28 作者: 点击:

磁控溅射镀膜仪是一种具有结构简略、电器操控稳定性好等优点的真空镀膜机,其工艺技术的选择对薄膜的功能具有非常重要的影响。

磁控溅射镀膜技术在陶瓷外表装修中采用的工艺流程如下:

陶瓷片→超声清洗→装夹→抽本底真空→plasma清洗→加热→通氩气→预溅射→抽本底真空→溅射(或屡次溅射)→镀AF膜→破真空卸片→外表查验→功能测验→包装、入库。

以上工艺技术就是以磁控溅射镀膜仪为根底,选用适宜的靶材和溅射工艺,制备出超硬的耐磨镀层,可以实现资料的高硬度、高耐磨、高耐划伤特性;一起,使用NCVM光学膜结构规划,规划出各层不同折射率资料,可以调配出任意颜色,使得陶瓷不仅硬度高、强度高,具有外观件时尚、美观的特色,而且不会屏蔽电磁信号。


磁控溅射镀膜仪


磁控溅射镀膜仪合作NCVM工艺,可以实现关于陶瓷电子消费品的外表装修处理,在确保陶瓷强度和硬度的一起,也可以提高其美观性和艺术性,更好地满足顾客的个性化需求。NCVM镀膜主要是在真空条件下,通过相应的物理化学手法来对金属资料进行转换,以粒子的方法吸附在资料外表,形成镀膜层,相比较普通真空电镀,NCVM的技术含量更高,加工流程也愈加复杂。

磁控溅射镀超硬膜,结合NCVM光学镀膜技术,其镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性以及致密度高的特色,已在电子产品中取得很多使用。随着电子工业的迅猛发展,NCVM镀膜凭仗本身优越的功能,在真空电镀技术领域锋芒毕露,成为了电子消费品生产中的一项核心技术,在确保良好处理作用的一起,也可以消除电镀过程中重金属元素关于人体的危害,对其环境污染问题进行处理。


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关键词:磁控溅射镀膜仪,磁控溅射系统,磁控溅射镀膜仪技术介绍

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