超高真空磁控镀膜系统

超高真空磁控镀膜系统

◆设备用途

该系统为高真空多功能离子束沉积系统，系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由沉积室、考夫曼溅射离子源、考夫曼清洗辅助离子源、样品台、样品加热装置、膜厚监测系统、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。

◆技术指标

可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

zhuanli设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

触摸屏控制，简单方便

真空度≤7×10 -3 mbar

溅射电流：0-150mA可调

方形样品仓zhuanli设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

工作距离调节范围：30mm-100mm

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