离子束溅射系统

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磁控溅射镀膜仪的作用!

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磁控溅射镀膜仪的作用!

发布日期:2019-09-18 作者: 点击:

真空镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量,在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行真空镀膜。磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多!

用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。

真空镀膜机是目前制作真空条件应用广泛的真空设备,一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。

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用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。

镀前预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面,为最后获得高质量镀层作准备,要进行脱脂、去锈蚀、去灰尘等工作。

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