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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400

分类：全自动一体化整机设备
产品编号：1638869168
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[公司新闻] 磁控溅射系统靶中毒的现象和解决办法

一：磁控溅射系统靶中毒现象(1)正离子堆积：靶中毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。（2）阳极消失：靶中毒时，接地
发布时间：2022-11-21 点击次数：29

[行业新闻] 磁控溅射系统靶中毒的影响因素

磁控溅射系统靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必需有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续
发布时间：2022-11-21 点击次数：15

[公司新闻] 磁控溅射系统的环保特性

磁控溅射系统能够有效的提高产品的质量，特别是使用在一些金属材质上的时候，其不仅能够让其具备绝缘的效果，还能够提水抗腐蚀程度的水平。在目前的市场中磁控溅射系统设备适用于电子、机械、建筑和其他领域的金属及介电涂层市场的很大一部分份额。该设备是对
发布时间：2022-10-28 点击次数：18

[行业新闻] 磁控溅射系统在装修领域的应用

当磁控溅射系统入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会产生溅射;溅射原子的能量比蒸腾原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规则。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度
发布时间：2022-10-28 点击次数：19

[公司新闻] 磁控溅射系统的常见故障及解决办法

磁控溅射是物理气相堆积的一种,磁控溅射系统通过在靶阴极外表引入磁场，使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢？磁控溅射镀膜常见毛病及解决办法1.无法起辉（1）直流电源毛病，查
发布时间：2022-08-16 点击次数：21

[常见问题] 磁控溅射镀膜系统的原理是什么？

磁控溅射系统厂家为你讲解磁控溅射镀膜系统的原理是什么：溅射镀膜的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下，对阴极靶材外表进行炮击，把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有必定的动能，沿必定的
发布时间：2022-06-14 点击次数：25

[行业新闻] 磁控溅射系统是怎样提高沉积速率的？

磁控溅射系统提高沉积速率的原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速
发布时间：2021-06-04 点击次数：45

[行业新闻] 镀膜机日常需要维护检修时应当特别注意的常见问题

磁控溅射镀膜仪日常需求保护检修时应当特别注意的常见问题，在操作镀膜机的时分镀膜时机出现一部分受损，这时分咱们就需求对其进行保护检修，在对其进行保护检修的时分要特别注意一部分常见问题，接下来就让咱们一起来看看。　　1、例行保护保养机器设备中察
发布时间：2020-04-20 点击次数：73

[行业新闻] 磁控溅射镀膜机镀膜均匀性是一项重要指标

真空行业的从业者都知道,磁控溅射镀膜机镀膜均匀性是一项重要的目标，均匀性好的镀膜机,镀出优秀的膜层慨率也就高许多,一起也降低了本钱,这是每个企业老板所希望的。因此,客户在采购设备的时候,分外的关注镀膜机均匀性问题,这个问题也是谈
发布时间：2021-03-31 点击次数：198

[行业新闻] 运用磁控溅射镀膜仪设备对环境有什么要求吗？

运用磁控溅射镀膜仪设备对环境有什么要求吗？由于要在特定条件下，因而磁控溅射镀膜仪设备要满意真空对环境的要求。拟定的各种磁控溅射镀膜仪的行业规范(包括磁控溅射镀膜设备通用技能条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设
发布时间：2020-04-08 点击次数：54

[行业新闻] 磁控溅射镀膜常见故障及解决办法

磁控溅射是物理气相堆积（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一种,磁控溅射系统通过在靶阴极外表引入磁场，使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢？磁
发布时间：2020-03-24 点击次数：435

[行业新闻] 磁控溅射镀膜膜厚均匀性设计方法

磁控溅射系统是现代工业中不可短少的技能之一，磁控溅射镀膜技能正广泛使用于通明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装修膜，在国防和国民经济出产中的效果和位置日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性，堆积速率
发布时间：2020-02-24 点击次数：96

[行业新闻] 磁控溅射系统的特点！

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射系统厂家带你了解更多！磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场
发布时间：2019-09-25 点击次数：91

[行业新闻] 磁控溅射系统的工作原理！

磁控溅射系统的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程
发布时间：2019-06-03 点击次数：114

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