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磁控溅射是物理气相堆积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种,磁控溅射系统通过在靶阴极外表引入磁场，使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢？
磁控溅射镀膜常见毛病及解决办法
1.无法起辉
（1）直流电源毛病，查看直流电源；
（2）氩气进气量小，查看氩气流量计或加大氩气进气量；
（3）真空室清洁度不行，清洁真空室；
（4）靶材绝缘度不行，查看靶是否与地短路，在通水的情况下，对地电阻应该在 50kΩ以上；
（5）磁场强度不行，查看永磁体是否消磁；
（6）真空度太差，查看真空体系。
2.辉光不稳
（1）电压电流不稳，查看电源；
（2）真空室压力不稳，查看氩气进气量及真空体系；
（3）电缆毛病，查看电缆是否连接良好。
3.成膜质量差
（1）基片外表清洁度差，清洁基片外表；
（2）真空室清洁度差，清洁真空室；
（3）基片温度过大或过小，查看温控体系，校准热电偶；
（4）真空室压力过大，查看真空体系；
（5）溅射功率设置不当，查看直流电源，设置何事的设定功率。
4.溅射速率低
（1）氩气进气量过大或过小，调查辉光色彩可以判定氩气是过大仍是过小，据此调整氩气进气量；检修流量计；
（2）靶材过热，查看冷却水流量；
（3）查看永磁体是否消磁。
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