沈阳宇杰真空设备有限公司
电话:13555776988
网址:www.syyjzk.com
淘宝店铺:https://shop311771663.taobao.com
地址:辽宁省沈阳市沈河区泉园街道
磁控溅射是物理气相堆积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种,磁控溅射系统通过在靶阴极外表引入磁场,使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢?
磁控溅射镀膜常见毛病及解决办法
1.无法起辉
(1)直流电源毛病,查看直流电源;
(2)氩气进气量小,查看氩气流量计或加大氩气进气量;
(3)真空室清洁度不行,清洁真空室;
(4)靶材绝缘度不行,查看靶是否与地短路,在通水的情况下,对地电阻应该在 50kΩ以上;
(5)磁场强度不行,查看永磁体是否消磁;
(6)真空度太差,查看真空体系。
2.辉光不稳
(1)电压电流不稳,查看电源;
(2)真空室压力不稳,查看氩气进气量及真空体系;
(3)电缆毛病,查看电缆是否连接良好。
3.成膜质量差
(1)基片外表清洁度差,清洁基片外表;
(2)真空室清洁度差,清洁真空室;
(3)基片温度过大或过小,查看温控体系,校准热电偶;
(4)真空室压力过大,查看真空体系;
(5)溅射功率设置不当,查看直流电源,设置何事的设定功率。
4.溅射速率低
(1)氩气进气量过大或过小,调查辉光色彩可以判定氩气是过大仍是过小,据此调整氩气进气量;检修流量计;
(2)靶材过热,查看冷却水流量;
(3)查看永磁体是否消磁。
文章内容来源于网络,如有问题,请与我们联系!