离子束溅射系统

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磁控溅射系统的常见故障及解决办法

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磁控溅射系统的常见故障及解决办法

发布日期:2022-08-16 作者: 点击:

磁控溅射是物理气相堆积的一种,磁控溅射系统通过在靶阴极外表引入磁场,使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢?

磁控溅射镀膜常见毛病及解决办法

1.无法起辉

(1)直流电源毛病,查看直流电源;

(2)氩气进气量小,查看氩气流量计或加大氩气进气量;

(3)真空室清洁度不行,清洁真空室;

(4)靶材绝缘度不行,查看靶是否与地短路,在通水的情况下,对地电阻应该在 50kΩ以上;

(5)磁场强度不行,查看永磁体是否消磁;

(6)真空度太差,查看真空体系。


磁控溅射系统


2.辉光不稳

(1)电压电流不稳,查看电源;

(2)真空室压力不稳,查看氩气进气量及真空体系;

(3)电缆毛病,查看电缆是否连接良好。

3.成膜质量差

(1)基片外表清洁度差,清洁基片外表;

(2)真空室清洁度差,清洁真空室;

(3)基片温度过大或过小,查看温控体系,校准热电偶;

(4)真空室压力过大,查看真空体系;

(5)溅射功率设置不当,查看直流电源,设置何事的设定功率。

4.溅射速率低

(1)氩气进气量过大或过小,调查辉光色彩可以判定氩气是过大仍是过小,据此调整氩气进气量;检修流量计;

(2)靶材过热,查看冷却水流量;

(3)查看永磁体是否消磁。

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