沈阳宇杰真空设备有限公司
电话:13555776988
网址:www.syyjzk.com
淘宝店铺:https://shop311771663.taobao.com
地址:辽宁省沈阳市沈河区泉园街道
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD40
◆真空室结构:方形前开门
◆真空室尺寸:φ500x500x500mm
◆极限真空度:≤3.0E-5Pa
◆沉积源:永磁靶4套,φ2英寸
◆样品尺寸,温度:φ4英寸,1片,最高800℃
◆占地面积(长x宽x高):约2米×1.7米×2米
◆电控描述:全自动
◆工艺:片内膜厚
◆均匀性:≤±3%
◆特色:根据客户需求自由转换,自动化,集成化,人性化操作任意设备均可定制成一体机
◆产品概述:本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
◆设备特点:本设备是一个镀膜平台,可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。
◆设备用途:用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。