离子束溅射系统

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    新闻

  • [公司新闻] 磁控溅射系统的原理是什么?

    磁控溅射系统的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下,对阴极靶材外表进行炮击,把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来,被溅射出来的粒子带有必定的动能,沿必定的方向射向基体外表,在基体表面构成镀层。溅射镀膜开
    发布时间:2019-05-10   点击次数:12

  • [行业新闻] 主要的磁控溅射系统方式有哪些?

    磁控溅射系统设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产,那么大家知道目前的磁控溅射系统设备主要的溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。磁控溅射镀
    发布时间:2019-05-13   点击次数:2

  • [行业新闻] 磁控溅射系统设备技术亮点

    磁控溅射系统设备作为目前镀膜工业中不可缺少的设备之一,其作用意义重大。目前很多汽车镀膜产品都使用这种设备,可以说是深受广大用户的青睐。那么磁控溅射系统设备的亮点有哪些呢?磁控溅射系统设备市场前景如何我们知道当高速电子对不锈钢、钛、镍、金、银
    发布时间:2019-05-13   点击次数:4

  • [行业新闻] 磁控溅射系统设备的主要用途

    磁控溅射系统设备在如今广大行业中应用非常的广泛,那么其主要用途是什么呢?可能很多新用户不是非常的了解,下面小编来给大家进行讲解一下。磁控溅射系统设备制备的溅射薄膜的特点磁控溅射系统设备的主要用途:1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸
    发布时间:2019-05-13   点击次数:4

  • [行业新闻] 磁控溅射系统设备绿色环保

    磁控溅射系统设备能够有效的提高产品的质量,特别是使用在一些金属材质上的时候,其不仅能够让其具备绝缘的效果,还能够提水抗腐蚀程度的水平。在目前的市场中磁控溅射系统设备适用于电子、机械、建筑和其他领域的金属及介电涂层市场的很大一部分份额。该设备
    发布时间:2019-05-13   点击次数:8

  • [行业新闻] 磁控溅射系统设备技术应用

    磁控溅射系统设备在我国是属于工业中的电镀设备,其采用物理手段、化学手段对物体表面进行镀膜,能够让物体具备耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等多种特性。可以在很大程度上提高产品质量,延长使用周期。磁控溅射系统设备市
    发布时间:2019-05-13   点击次数:7

  • [行业新闻] 磁控溅射系统的工作原理!

    磁控溅射系统的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程
    发布时间:2019-06-03   点击次数:9

  • [行业新闻] 磁控溅射系统的特点!

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射系统厂家带你了解更多!磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场
    发布时间:2019-09-25   点击次数:5

  • [行业新闻] 磁控溅射系统的工作原理

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须
    发布时间:2019-11-09   点击次数:1

  • [行业新闻] 磁控溅射系统被广泛应用

    磁控溅射系统已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高
    发布时间:2019-11-11   点击次数:1

  • [常见问题] 浅谈磁控溅射系统设备溅射种类

    随着如今科技的发达,人们对镀膜的要求越来越高。为了满足这一需要,不少厂家推出了磁控溅射系统设备,这种设备对于改良镀膜产品非常的有效,其能够以高速、低温、能够溅射在任何材料上,是目前很多企业都有在使用的一种设备。磁控溅射系统设备的稳定性,对所
    发布时间:2019-05-13   点击次数:6

  • [常见问题] 磁控溅射系统设备如何使用效率才高?

    在使用磁控溅射系统设备的时候,使用通常的溅射方法,发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率,加快工作的进度。那么该如何加快这种设备的使用效率呢?这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。浅析磁控溅射系统设
    发布时间:2019-05-13   点击次数:5

  • [常见问题] 磁控溅射系统设备溅射机理解析

    磁控溅射系统设备是一种辉光放电的设备,其利用阴极溅射原理来进行镀膜,那么其溅射机理是如何的呢?用高能粒子(大多数是由电场加速的气体正离子)撞击固体表面(靶),使固体原子(分子)从表面射出的现象称为溅射。溅射现象很早就为人们所认识,通过前人的
    发布时间:2019-05-13   点击次数:7

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