沈阳宇杰真空设备有限公司
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磁控溅射系统的主要用途
（1）各种功能性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功能的薄膜。 例如，在低温下沉积氮化硅抗反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。
（2）在装饰领域的应用，例如各种全反射膜和半透明膜，例如手机壳，鼠标等。
（3）作为微电子领域的非热镀膜技术，主要用于化学气相沉积（CVD）或金属有机
（4）化学气相沉积（CVD）难以生长并且不适合用于材料的薄膜沉积，并且可以获得大面积的非常均匀的薄膜。
（5）在光学领域：IF封闭场非平衡磁控溅射技术也已应用于光学薄膜（例如抗反射涂层），低辐射率玻璃和透明导电玻璃中。 特别地，透明导电玻璃目前广泛地用于平板显示装置，太阳能电池，微波和射频屏蔽装置和装置以及传感器中。
（6）在机械加工工业中，自引入以来，表面功能膜，超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术得到了极大的发展，可以有效提高表面硬度，复合韧性，耐磨性和高韧性。 温度化学稳定性。 性能，从而大大提高了涂层产品的使用寿命。
除了已广泛使用的上述领域外，磁控溅射镀膜仪还在高温超导薄膜，铁电薄膜，巨磁阻薄膜，薄膜发光材料， 太阳能电池和记忆合金薄膜。
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