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镀膜织物膜基结合力与其表面钛膜的耐磨性密切相关，钛膜耐磨性越好，膜基结合就越牢固。磁控溅射镀膜玻璃即为离线镀膜玻璃，是在平板玻璃出厂后，再进行镀膜加工。合格的镀膜玻璃不仅要满足光学透射率、反射率、耐磨性能、抗化学腐蚀性能等理化指标，还要保证产品的色调均匀性。
溅射镀膜过程主要是将欲沉积成薄膜的材料制成靶材，固定在溅射沉积系统的阴极上，待沉积薄膜的基片放在正对靶面的阳极上。
溅射系统抽至高真空后充入氩气等，在阴极和阳极之间加载高压，阴阳极之间会产生低压辉光放电。
近年来磁控溅射技术发展非常迅速，代表性方法有平衡平衡磁控溅射、反应磁控溅射、中频磁控溅射及高能脉冲磁控溅射等等。
放电产生的等离子体中，氩气正离子在电场作用下向阴极移动，与靶材表面碰撞，受碰撞而从靶材表面溅射出的靶材原子称为溅射原子。
磁控溅射不仅应用于科研及工业领域，已延伸到许多日常生活用品，主要应用在化学气相沉积制膜困难的薄膜制备。磁控溅射技术在制备电子封装及光学薄膜方面已有多年，特别是先进的中频非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜、透明导电玻璃等方面得到应用。
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