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磁控溅射镀膜在高清PET基材上进行多层贵金属磁控溅镀，通过对溅射的金属层数和种类的设计达到光谱选择的目的，从而实现可见光高透过。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！
磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜。
磁控溅射技术发展过程中各项技术的突破一般集中在等离子体的产生以及对等离子体进行的控制等方面。通过对电磁场、温度场和空间不同种类粒子分布参数的控制，使膜层质量和属性满足各行业的要求。
相对准确的电磁场设计是对溅射过程中的电磁场进行模拟，而不是只对未工作时的磁控溅射设备进行电磁场模拟。
阳极设计要考虑空间的位置，电位关系，尺寸和面积以及阳极的材料性能，保证溅射过程稳定进行。屏蔽的设计，首先要考虑电场的设计和电位关系，防止非靶材材料被溅射，污染薄膜。
溅射碰撞一般是研究带电荷能离子与靶材表层粒子相互作用，并伴随靶材原子及原子团簇的产生的过程。
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