离子束溅射系统

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  • 磁控溅射系统的原理是什么？

    磁控溅射系统的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下，对阴极靶材外表进行炮击，把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有必定的动能，沿必定的方向射向基体外表，在基体表面构成镀层。溅射镀膜开
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜仪靶材的主要方法

    由于磁控溅射镀膜仪的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。实现的途径主要有以下几种：a、靶材设计与改进b、增强磁控溅射阴极的磁场c、
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用

    近年来，随着新材料的开发，尤其是薄膜材料的发展和应用，带动控溅射沉积技术的飞速发展，在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了控溅射沉积镀膜技术的工艺过程及其发展情况，各种主要磁控溅射镀膜仪的特点，并介绍磁控溅射技术在
    发布时间：2019-05-10   

  • 蒸发镀膜和溅射镀膜的区别

    真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子束溅射系统。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，
    发布时间：2019-05-10   

  • 溅镀工艺的概念及分类

    溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜仪要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(g
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜仪的操作规范

    磁控溅射镀膜仪的操作规范1.正常工作的磁控溅射镀膜仪在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜仪运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜仪的电子枪的时候
    发布时间：2019-05-10   
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