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[行业新闻] 磁控溅射系统的工作原理

磁控溅射系统的作业原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片进程中与氩原子产生磕碰，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴ji靶，并以高能量炮击靶表面，使靶材产生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分
发布时间：2021-08-24 点击次数：50

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