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离子束溅射系统

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溅镀工艺的概念及分类

溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜仪要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(g
发布时间：2019-05-10

磁控溅射镀膜仪的操作规范

磁控溅射镀膜仪的操作规范1.正常工作的磁控溅射镀膜仪在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜仪运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜仪的电子枪的时候
发布时间：2019-05-10

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