沈阳宇杰真空设备有限公司
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一、离子束溅射的长处
1、溅射镀膜是依托动量交换效果使固体资料的原子、分子进入气相，溅射出的均匀能量10eV，高于真空蒸发粒子的100倍左右，堆积在基体表面上之后，尚有足够的动能在基体表面上迁移，因此薄膜质量较好，与基体结合牢固。
2、任何资料都能溅射镀膜，资料溅射特性不同较其蒸发特性不同小，即使是高熔点资料也能进行溅射，对于合金、靶材化合物资料易制成与靶材组分比例相同的薄膜，因此溅射镀膜的应用非常广泛。
3、溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到，因此其工作压力在10-2Pa~10Pa规模，所以溅射离子在飞到基体之前往往已与真空室内的气体分子发生过磕碰，其运动方向随机违背本来的方向，而且溅射一般是从较大靶表面积中射出的，因此比真空镀膜得到均匀厚度的膜层，对于具有勾槽、台阶等镀件，能将阴极效应形成膜厚不同减小到能够忽略的程度。但是，较高压力下溅射会使膜中含有较多的气体分子。
4、能够使离子束准确聚焦和扫描，在坚持离子束特性不变的情况下，能够变换靶材和基片资料，而且能够独立控制离子束能量和电流。因为能够准确地控制离子束的能量、束流巨细与束流方向，而且溅射出的原子能够不通过磕碰进程而直接堆积薄膜，因此离子束溅射办法很适合于作为一种薄膜堆积的研究手段。
4.离子束溅射的缺陷
离子束溅射系统的主要缺陷便是轰击到的靶面积太小，堆积速率一般较低。而且，离子束溅射堆积也不适宜堆积厚度均匀的大面积的薄膜。而且溅射装置过于杂乱，设备运行本钱较高。
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