沈阳宇杰真空设备有限公司
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离子束溅射系统与清洗多功能渠道是在真空环境中，使用离子轰击靶材外表，使溅射出的粒子沉积在基片上，进而取得大面积纳米至微米级厚度的均匀膜层。技术指标如下：
1. 极限真空度：≤6.0×10-5 Pa (经烘烤除气后)；
2. 体系真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
3. 体系短时间暴露大气并充枯燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0×10-4 Pa；
4. 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa；
5. 溅射真空室尺度Ф 450mm ×350mm，电动上掀盖结构，可内烘烤100～ 150℃ ，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，外表进行特别工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；
6. 磁控溅射靶材尺度为Φ3英寸，2路500W射频溅射，1路500W直流溅射，射频溅射与直流溅射兼容，可完成单靶独立，多靶轮番、组合共溅等作业形式，靶内有水冷，有电动操控挡板组件及靶屏蔽罩。三个靶可共同折向下面的样品中心，靶与样品间隔90～ 110mm 可调；
7.可镀基片尺度为Φ 50mm ，基片加热温度 600°C ± 1°C ，由热电偶闭环反馈操控；基片可连续反转，转速5～10转/分；基片可以加200V负偏压；配1套手动操控样品挡板组件及2个样品托；
8.镀膜厚度不均匀性≤5%；
9. 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护体系。
10. 镀膜自动操控。计算机操控体系完成对靶挡板、样品自转、样品控温等操控。
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