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[行业新闻] 磁控溅射系统是怎样提高沉积速率的？

磁控溅射系统提高沉积速率的原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速
发布时间：2021-06-04 点击次数：45

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