沈阳宇杰真空设备有限公司
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JGP-560型单室磁控溅射系统
◆设备用途
用于纳米级单层及多层功能膜、 硬质膜、 金属膜、 半导体膜、 介质膜等新型薄膜材料的制备。
可广泛应用于大专院校、 科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
◆设备组成
系统主要由溅射真空室、 磁控溅射靶、 基片水冷加热公转台、 工作气路、 抽气系统、 安装机
台、 真空测量及电控系统等部分组成。
◆技术指标
极限真空度：≤6.6x10-5 Pa (经烘烤除气后)；
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到8.0x10-4 Pa；
停泵关机12小时后真空度：≤6Pa。
