离子束溅射系统

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DZS—500电子束蒸发系统

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DZS—500电子束蒸发系统

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  • 发布日期:2022/01/06
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DZS—500电子束蒸发系统


DZS—500电子束蒸发系统


DZS—500电子束蒸发系统

◆DZS—500电子束蒸发系统用途

可用于Au, Ni, Ag, Ti, Al, Cr和Mo等金属以及氧化物(ITO等)在基片上均匀沉积多层膜

◆DZS—500电子束蒸发系统组成

系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。

◆技术指标

极限真空度: 6.6x10-5 Pa

膜厚均匀性: ≤ ±5%

样品Z大尺寸:8英寸晶圆

转速: 3–30 rpm/m

样品加热温度:室温~300°C

温度均匀性:≤ ±10°C

本文网址:http://www.syyjzk.com/product/667.html

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