◆设备用途
该系统为高真空多功能离子束沉积系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
◆设备组成
系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。
◆技术指标
可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）
zhuanli设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度
可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm
全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
触摸屏控制，简单方便
真空度≤7×10 -3 mbar
溅射电流：0-150mA可调
方形样品仓zhuanli设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）
工作距离调节范围：30mm-100mm