DZS-500型电子束蒸发镀膜系统

◆设备用途

用于制备导电薄膜、 半导体薄膜、 铁电薄膜、 光学薄膜等， 广泛应用于大专院校、 科研机构

的科研及小批量生产。

◆设备组成

系统主要由蒸发真空室、E 型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真

空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

◆技术指标

极限真空度：≤6.7×10 Pa

恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；

真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统e型电子枪：阳极电压：6kv、8kv(1套)

坩埚：水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml

功率：0-6KW可调电阻蒸发源(可选)

电压：5、10V

功率：电流300A，输出功率3Kw1套，可切换水冷电极3根，组成2个蒸发舟

基片尺寸：可放置4″基片

样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热温度 ≤800°C±1°C，可调手动控制样品挡板组件1套

气路系统：质量流量控制器1路