◆设备用途
该系统为高真空多功能离子束沉积系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
◆设备组成
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片台（客户自备）、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成；
◆技术指标
1、极限真空度：≤5.0x10-5 Pa (经烘烤除气后)；
2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0x10-4 Pa；
4、停泵关机12小时后真空度：≤2 Pa。