JGP-560型单室磁控溅射系统

◆设备用途

用于纳米级单层及多层功能膜、 硬质膜、 金属膜、 半导体膜、 介质膜等新型薄膜材料的制备。 

可广泛应用于大专院校、 科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由溅射真空室、 磁控溅射靶、 基片水冷加热公转台、 工作气路、 抽气系统、 安装机

台、 真空测量及电控系统等部分组成。

◆技术指标

极限真空度：≤6.6x10-5 Pa (经烘烤除气后)；

系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；

系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到8.0x10-4 Pa；

停泵关机12小时后真空度：≤6Pa。