多室磁控溅射与离子束联合系统

◆设备用途

用于纳米级单层及多层功能膜、 硬质膜、 金属膜、 半导体膜、 介质膜等新型薄膜材料的制备。

 可广泛应用于大专院校、 科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

◆设备组成

系统主要由溅射真空室、 进样室、 永磁磁控溅射靶（三个靶）、 单基片加热台、 直流电源、 

射频电源、 工作气路、 抽气系统、 真空测量、 电控系统及安装机台等部分组成。

◆技术指标

◆技术指标

极限真空度：≤6.8x10-5 Pa (经烘烤除气后)；

系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；

系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到8.0x10-4 Pa；

停泵关机12小时后真空度：≤4Pa。